The effect of adding different Mg contents to an Al-12wt.%Zn master alloy was experimentally investigated. The Al-Zn-Mg alloys were unidirectionally solidified as a function of solidification parameters, temperature gradient G L, solidification front velocity V, and composition C0. The alloys were solidified with a constant temperature gradient (G L=2500K/m) in the solidification front velocity range from 4X10-6m/s to 1.7X10-4m/s. The resulting microstructure was characterized to investigate the effect of solidification front velocities and composition on primary dendrite arm spacing, volume percentage of eutectic in interdendritic regions and τ intermetallic phase in α-Al matrix. Theoretical models for the dendrite arm spacing and dendrite tip radius have been compared with the experimental observations.

El efecto de la adición de diferentes contenidos de Mg a una aleación maestra Al-Zn-Mg fue investigado experimentalmente. Las aleaciones Al-Zn-Mg fueron solidificadas unidireccionalmente como una función de los parámetros de solidificación; gradiente de temperatura G L, velocidad del frente de solidificación V, y la composición química C0. La aleación fue solidificada con un gradiente de temperatura constante (G L=2500K/m) en el rango de velocidades del frente de solidificación desde 4X10-6m/s hasta 1.7X10-4m/s. La microestructura resultante fue caracterizada para investigar el efecto de la velocidad del frente de solidificación y la composición química sobre el espaciamiento dendritico primario, el porcentaje del volumen de eutectico en las regiones interdendriticas y la fase intermetalica τ, en la matriz α-Al. Los modelos teóricos para el espaciamiento dendritico primario y el radio de la punta de la dendrita han sido comparados con las observaciones experimentales.

Electrical characteristics of thin films of aluminum oxide prepared by spray pyrolysis were studied. The films were prepared from solution onto single crystal GaAs (100) substrates at temperatures from 300°C to 600°C. The electrical characteristics of these films as a function of the substrate temperature were determined from the capacitance and current versus voltage measurements of metal-oxide-semiconductor (MOS) structures incorporating them. The interface states density was of the order of 10(12) 1/eV-cm² and the films can stand electric fields higher than 5MV/cm, without observing destructive dielectric breakdown. The refractive index at 633 nm near to 1.64 was measured by ellipsometry.

Se estudiaron las características eléctricas de películas delgadas de óxido de aluminio preparadas por la técnica de rocío pirolítico ultrasónico. Las películas delgadas se depositaron a partir de una solución de acetilacetonato de aluminio en N,N-dimetilformamida sobre substratos monocristalinos de GaAs (100) tipo-p. La temperatura de depósito fue de 300 a 600 ºC. Las propiedades eléctricas de las películas en función de la temperatura de substrato se determinaron por medidas de capacitancia y corriente contra voltaje mediante la incorporación de las películas en estructuras tipo MOS (metal-óxido-semiconductor). La densidad de estados de interfaz resultó del orden de 10(12) 1/eV-cm² y el dispositivo MOS soportó campos eléctricos mayores a 5MV/cm, sin mostrar rompimiento dieléctrico. El índice de refracción se determinó por elipsometría a 633nm, con un valor máximo del orden de 1.64.

Decorative properties of aluminum-molibdenum alloys have been analyzed as a function of chemical composition and applied heat treatment. These decorative application are due exclusively for their nanostructure nature. The alloys were prepared at room temperature by DC magnetron sputtering technique in argon atmosphere at different deposition time to obtain several thickness and chemical compositions in the range 3 to 30% of molibdenum metal.

Las propiedades decorativas de aleaciones bimetálicas nanoestructuradas de aluminio molibdeno se han analizado en función de la composición química y los tratamientos térmicos aplicados. Sus aplicaciones decorativas se deben exclusivamente a que las aleaciones están nanoestructuradas. Las aleaciones se elaboraron a temperatura ambiente por la técnica de erosión catódica a magnetrón en atmósfera de argón, variando los tiempos de depósito para obtener diferentes grosores y composiciones elementales, en el intervalo de 3 a 30% de molibdeno.